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环亚娱乐ag88真人版半导体硅片的化学清洗技能
来源:未知 作者:admin 发布时间:2018-10-11 23:01 浏览量:

  半导体硅片的化学清洗技能

  在光伏工业中,硅片的清洗是非常重要的一个环节,假如硅片没有清洗洁净,那么后续的工艺就无法进行,作废硅片也将推高生产成本。硅片的清洗最早是开始于半导体职业,因而半导体硅片的清洗对光伏硅片的清洗有着重要的学习含义。

  一、硅片的化学清洗工艺原理

  硅片经过不同工序加工后,环亚娱乐ag88环亚娱乐ag88真人版其外表已遭到严峻沾污,一般讲硅片外表沾污大致可分在三类:

   A.、有机杂质沾污:可经过有机试剂的溶解效果,结合超声波清洗技能来去除。

   B.、颗粒沾污:运用物理的方法可采机械擦拭或超声波清洗技能来去除粒径 ≥ 0.4 μm颗粒,运用兆声波可去除 ≥ 0.2 μm颗粒。

太阳能级硅片

  太阳能级硅片

   C. 金属离子沾污:有必要选用化学的方法才干清洗其沾污,硅片外表金属杂质沾污有两大类:

  a. 一类是沾污离子或原子经过吸附涣散附着在硅片外表。

  b. 另一类是带正电的金属离子得到电子后边附着(尤如电镀)到硅片外表。

  硅抛光片的化学清洗意图就在于要去除这种沾污,一般可按下述方法进行清洗去除沾污。

  a. 运用强氧化剂使电镀附着到硅外表的金属离子、氧化成金属,溶解在清洗液中或吸附在硅片外表。

  b. 用无害的小直径强正离子(如H+)来代替吸附在硅片外表的金属离子,使之溶解于清洗液中。

  c. 用很多去离水进行超声波清洗,以扫除溶液中的金属离子。

  自1970年美国RCA实验室提出的浸泡式RCA化学清洗工艺得到了广泛应用,1978年RCA实验室又推出兆声清洗工艺,近几年来以RCA清洗理论为根底的各种清洗技能不断被开发出来,例如:

  ⑴ 美国FSI公司推出离心喷淋式化学清洗技能。

  ⑵ 美国原CFM公司推出的Full-Flow systems封闭式溢流型清洗技能。

  ⑶ 美国VERTEQ公司推出的介于浸泡与封闭式之间的化学清洗技能(例Goldfinger Mach2清洗体系)。

  ⑷ 美国SSEC公司的双面擦拭技能(例M3304 DSS清洗体系)。

  ⑸ 日本提出无药液的电介离子水清洗技能(用电介超纯离子水清洗)使抛光片外表洁净技能达到了新的水平。

  ⑹ 以HF / O3为根底的硅片化学清洗技能。